2D Galvo Scanner Laser nga Pagmarka |Welding |Pagputol |Paglimpyo |G3 nga Serye
Deskripsyon ug Pasiuna
Ang G3 Ult II Galvo Scanner nagsagop sa daghang mga lakang nga anti-interference, nga nagtanyag lig-on nga resistensya sa sistema, taas nga kasaligan, maayo nga linearity, taas nga pagbalik-balik, ug mubo nga oras sa pagtubag.Ang sistema naggamit sa usa ka hiniusa nga disenyo nga adunay gamay nga gidak-on, gaan nga gibug-aton, ug maayo kaayo nga pagbugkos, pagsiguro sa kalig-on sa panahon sa dugay nga operasyon.
Ang G3 Std Galvo Scanner usa ka high-speed, stable, ug tukma kaayo nga optical scanning module, kaylap nga gigamit sa mga aplikasyon sama sa laser material marking, laser cutting, laser welding, 3D printing, laser cleaning, flight cable conduit materials, paspas nga QR code pag-scan, ug uban pa.Kini angay alang sa tunga-tunga hangtod sa high-end nga mga senaryo sa aplikasyon.
Ang G3 Base Galvo Scanner usa ka versatile optical scanning module nga adunay maayo kaayo nga cost-effectiveness ug maayo nga performance sa pagproseso.Kini kaylap nga gigamit sa mga industriya sama sa pagmarka sa materyal sa laser, pagputol sa laser, welding sa laser, pag-imprenta sa 3D, paglimpyo sa laser, ug angay alang sa standard nga mga aplikasyon sa pagproseso sa laser.
Mga Hulagway sa Produkto
G3 Ult II
G3 Std
G3 Base
Mga detalye
| Mga pag-configure | ||
| Scanner | Input Diametro | 10 mm |
| Sayop sa Pagsubay | 0.11 ms | |
| Bilis sa Pagmarka | 8000 mm/s | |
| Katulin sa Posisyon | 15000 mm/s | |
| 1% Tibuok nga Scale | 0.26 ms | |
| 10% Tibuok nga Scale | 0.62 ms | |
| Pagkabalikbalik | <2 μrad | |
| Pag-angkon sa Drift | <100 ppm/K | |
| Offset Drift | <25 μrad/K | |
| Drift Labaw sa 8h | <0.1 mrad | |
| Nonlinearity | < 0.4% | |
| Anggulo sa Pag-scan | ± 0.35 rad | |
| Interface | XY2 - 100 | |
| wavelength | 10600 nm, 1064 nm, 532 nm, 355 nm | |
| sukaranan | Gahum | ± 15 V DC, 5 A |
| Gibug-aton | 2100 g | |
| Pagtrabaho Temp | 25 ± 10°C | |
| Mga pag-configure | ||
| Scanner | Input Diametro | 10 mm |
| Sayop sa Pagsubay | 0.11 ms | |
| Bilis sa Pagmarka | 10000 mm/s | |
| Katulin sa Posisyon | 16000 mm/s | |
| 1% Tibuok nga Scale | 0.26 ms | |
| 10% Tibuok nga Scale | 0.62 ms | |
| Pagkabalikbalik | <2 μrad | |
| Pag-angkon sa Drift | <100 ppm/K | |
| Offset Drift | <25 μrad/K | |
| Drift Labaw sa 8h | <0.15 mrad | |
| Nonlinearity | < 1% | |
| Anggulo sa Pag-scan | ± 0.35 rad | |
| Interface | XY2 - 100 | |
| wavelength | 10600 nm, 1064 nm, 532 nm, 355 nm | |
| sukaranan | Gahum | ± 15 V DC, 3 A |
| Gibug-aton | 1800 g | |
| Pagtrabaho Temp | 25 ± 10°C | |
| Mga pag-configure | ||
| Scanner | Input Diametro | 10 mm |
| Sayop sa Pagsubay | 0.2 ms | |
| Bilis sa Pagmarka | 5000 mm/s | |
| Katulin sa Posisyon | 10000 mm/s | |
| 1% Tibuok nga Scale | 0.32 ms | |
| 10% Tibuok nga Scale | 1.2 ms | |
| Pagkabalikbalik | <2 μrad | |
| Pag-angkon sa Drift | <150 ppm/K | |
| Offset Drift | <50 μrad/K | |
| Drift Labaw sa 8h | <0.2 mrad | |
| Nonlinearity | < 1% | |
| Anggulo sa Pag-scan | ± 0.35 rad | |
| Interface | XY2 - 100 | |
| wavelength | 10600 nm, 1064 nm, 532 nm, 355 nm | |
| sukaranan | Gahum | ± 15 V DC, 3 A |
| Gibug-aton | 1800 g | |
| Pagtrabaho Temp | 25 ± 10°C | |
