• ლაზერული მარკირების კონტროლის პროგრამა
  • ლაზერული კონტროლერი
  • ლაზერული გალვო სკანერის თავი
  • ბოჭკოვანი / UV / CO2 / მწვანე / პიკოწამ / ფემტოწამული ლაზერი
  • ლაზერული ოპტიკა
  • OEM/OEM ლაზერული აპარატები |მარკირება |შედუღება |ჭრა |დასუფთავება |მორთვა

ტელეცენტრული F-theta სკანირების ობიექტივი ჩინეთი |355 ნმ |532 ნმ |1064 ნმ…

Მოკლე აღწერა:


პროდუქტის დეტალი

პროდუქტის ტეგები

ტელეცენტრული ლაზერული F-theta ლინზების შერწყმული სილიციუმი და ოპტიკური მინა, 1064 ნმ, 355 ნმ, 532 ნმ, 10600 ნმ საფარი

ტელეცენტრული f-თეტა ბრტყელი ველის სარკის დარტყმის კუთხე მჭიდროდ კონტროლდება ისე, რომ გამომავალი სხივი თითქმის პერპენდიკულარული იყოს სამუშაო სიბრტყეზე ხედვის ველის ნებისმიერი კუთხით.შედეგად, ფოკუსური წერტილის მრგვალობა, ერთგვაროვნება (X ღერძი, Y ღერძის მიმართულება) და პერპენდიკულარულობა (Z ღერძის მიმართულება) შეიძლება მნიშვნელოვნად გაუმჯობესდეს მარკირების მთელ სიგანეზე.სწორედ ამიტომ ტელეცენტრულ f-theta ლინზას აქვს განსაკუთრებული უპირატესობები ზუსტი ლაზერული დამუშავებისა და ვერტიკალური პერფორაციის დროს.

პროდუქტის სურათი

სტანდარტული F-theta ობიექტივი-ოპტიკური მინა-3
F-theta სკანირების ობიექტივი ჩინეთის მწარმოებელი 10600nm
სტანდარტული F-theta ობიექტივი-ოპტიკური მინა

სპეციფიკაცია

1064 ნმ სილიკა
1064 ნმ ოპტიკური მინა
355nm Fuced Silica
532nm Fuced Silica
532 ნმ ოპტიკური მინა
1064 ნმ სილიკა
Ნაწილი ნომერი EFL WD Φ in სკანირების კუთხე სკანირების ველი წერტილის ზომა Φ გარეთ მაქს.ი.ა მთა ძაფი
(მმ) (მმ) (მმ) (მმ) (მმ) (მკმ) (მმ) (°)
f-32T-1030-1080 32 31.79 10 ±7,6° Φ 8,5 (6 × 6) 6.2 90 1.4 M85 × 1
f-65T-1030-1080 65 80.99 10 ±16° Φ 36 (26 × 26) 12.65 90 0.58 M85 × 1
f-88T-20-1030-1080 88 120.51 20 ±9,5° Φ 28.28 (20 × 20) 8.78 120 1.3 M85 × 1
f-90T-20-1030-1080 90 101.323 20 ±17° Φ 54 (38 × 38) 35 120 1.9 M85 × 1
f-100T-1030-1080 100 142.73 14 ±20,7° Φ 76 (54 × 54) 13.5 120 0.59 M85 × 1
f-100T-1030-1080 100 142.73 14 ±20,7° Φ 76 (54 × 54) 13.5 135 0.59 M85 × 1
f-100T-14-1030-1080 100 130.44 14 ±20° Φ 72 (51 × 51) 13.9 120 0.5 M85 × 1
f-120T-1030-1080 120 168.59 10 ±24° Φ 98 (70 × 70) 23.5 120 3 M85 × 1
f-125T-14-1030-1080 125 153.27 14 ±16,5° Φ 77,7 (55 × 55) 17.39 112 2 M85 × 1
f-125T-20-1030-1080 125 153.27 20 ±18° Φ 70,7 (50 × 50) 12.17 112 1.8 M85 × 1
f-167T-1030-1080 167 215.5 14 ±20,3° Φ 120 (85 × 85) 17 140 3.69 M85 × 1
f-200T-14-1030-1080 200 296.954 14 ±20° Φ 141 (100×100) 27.82 173 2 M85 × 1
f-254T-14-1030-1080 254 376.53 14 ±18° Φ155.5 (110×110) 35.3 126 5 M85 × 1
1064 ნმ ოპტიკური მინა
Ნაწილი ნომერი EFL WD Φ in სკანირების კუთხე სკანირების ველი წერტილის ზომა Φ გარეთ მაქს.ი.ა მთა ძაფი
(მმ) (მმ) (მმ) (მმ) (მმ) (მკმ) (მმ) (°)
f-100T-1064 100 122.8 15 ±22° Φ 77 (55 × 55) 13 120 2.1 M85 × 1
f-125T-1064 125 139.58 20 ±21,5° Φ 109 (66 × 66) 12 120 3 M85 × 1
f-167T-1064* 167 216.23 20 ±21° Φ 125 (90 × 90) 16.5 140 4.4 M85 × 1
F-170T-30-1064 * 170 209.61 30 ±21° Φ 120 (88 × 88) 11.1 140 4.4 M102 × 1;M112
f-183T-20-1064* 183 219.63 20 ±11,5° Φ 70.7 (50×50) 17.82 113 0.8 M85 × 1
f-210T-30-1064-M95 * 210 279.63 30 ±22° Φ 161 (115×115) 13.69 188 3.3 M95×1
f-210T-30-1064-M102 * 210 279.63 30 ±21° Φ 154 (108×108) 13.69 188 3.3 M102×1
f-211T-10-1064-M85 * 211 279.63 10 ±20° Φ 147(104×104) 41.1 150 4.4 M85 × 1
f-315T-14-1064B* 315 432.072 14 ±24,5° Φ 269(190×190) 43.8 270 2.3 M85 × 1
355nm Fuced Silica
Ნაწილი ნომერი EFL WD Φ in სკანირების კუთხე სკანირების ველი წერტილის ზომა Φ გარეთ მთა ძაფი
(მმ) (მმ) (მმ) (მმ) (მმ) (მკმ) (მმ)
f-30T-355 30 35.347 10 ± 10,5º Φ 8.5 (8 x 8) 1.95 47.4 M39 × 1
f-32T-355B 32 26.34 10 ±7,6º Φ 8.5 (1 x 1) 3.2 90 M85 × 1
f-60T-355 60 73.65 10 ±16º Φ 31 (22 × 22) 11.5 90 M85 × 1
f-65T-355 65 81.106 10 ±9.4º Φ 21.2 (15 x 15) 4.2 94 M85 × 1
f-70T-355 73.9 91.35 10 ±16º Φ 40 (28 x 28) 4.5 90 M85 × 1
f-100T-355 100 107.68 14 ±20,4 º Φ71 (50,8 × 50,8) 6.69 120 M85 × 1
f-100T-14-355B 100 135.475 14 ±21º Φ 70.7 (50 x 50) სხივი=14მმ 5 120 M85 × 1
f-103T-355 103 136.13 12 ±20.4º Φ 72 (51 × 51) 5.58 100 M85 × 1
f-110T-355 110 153.88 8 ±24º Φ 92 (65 × 65) 8.9 120 M85 × 1
f-120T-355 120 149.107 10 ±22,5º Φ 92 (65 × 65) 8 118 M85 × 1
f-130T-355 130 159.92 10 ±19º Φ 85 (60 × 60) 8.45 120 M85 × 1
f-167T-10-355 167 211.25 10 ±24º Φ 127 (90 × 90) 10.8 130 M85 × 1
f-167T-14-355 167 234.52 14 ±18º Φ 99 (70 × 70) 7.8 140 M85 × 1
F-167T-14-355B 166.57 229.163 14 ±22º Φ 127 (90 × 90) 7.7 159 M85 × 1
f-175T-355 175 247.487 10 ±24º Φ 142 (101 × 101) 11.8 140 M85 × 1
f-295T-14-355 295 426.75 14 ±23,7º Φ244 (172 x 172) 13 280 M85 × 1
f-330T-355 330 581.581 14 ±20º Φ 245 (173 × 173) 15.3 270 M85 × 1
532nm Fuced Silica
Ნაწილი ნომერი EFL WD Φ in სკანირების კუთხე სკანირების ველი წერტილის ზომა Φ გარეთ მაქს.ი.ა მთა ძაფი
(მმ) (მმ) (მმ) (მმ) (მმ) (მკმ) (მმ) (°)
f-63T-510-550 63 82.1 10 ±16° Φ 33 (23 × 23) 6.2 90 1 M85 × 1
f-88T-14-510-550 88 100.63 14 ±17° Φ 52 (37 × 37) 10 120 1.9 M85 × 1
f-100T-510-550 100 142.2 10 ±20,7° Φ 76 (54 × 54) 13.5 120 0.38 M85 × 1
f-100T-14-510-550 100 135.402 14 ±21° Φ 70,7 (50 × 50) 7 120 1.3 M85 × 1
F-167T-14-510-550 167 232.23 14 ±21° Φ 127 (90 × 90) 11.61 140 3 M85 × 1
532 ნმ ოპტიკური მინა
Ნაწილი ნომერი EFL WD Φ in სკანირების კუთხე სკანირების ველი წერტილის ზომა Φ გარეთ მაქს.ი.ა მთა ძაფი
(მმ) (მმ) (მმ) (მმ) (მმ) (მკმ) (მმ) (°)
f-100T-532 100 125.04 15 ±21,5° Φ 71 (50 × 50) 6.5 120 3.2 M85 × 1
f-110T-532 110 132.94 15 ±21,5° Φ 83 (60 × 60) 7.2 120 3.2 M85 × 1
f-170T-532 170 214.66 14 ±21,8° Φ 129 (91 × 91) 11.8 140 3 M85 × 1
f-170T-20-532 170 204.788 20 ±24° Φ 141 (100 × 100) 8.53 164 4 M102 × 1

  • წინა:
  • შემდეგი: