แหล่งกำเนิดเลเซอร์อัลตราไวโอเลต UV ของจีน 355 นาโนเมตร
-
เลเซอร์อัลตราไวโอเลต (UV) 355nm- JPT Lark 3W ระบายความร้อนด้วยอากาศ
JPT UV Laser Lark Series 355nm, 3W, ระบบทำความเย็นด้วยอากาศ Lark-355-3A เป็นผลิตภัณฑ์ UV ล่าสุดของซีรีส์ Lark ซึ่งใช้วิธีการจัดการความร้อนที่ผสมผสานการกระจายความร้อนแบบการนำความร้อนและการกระจายความร้อนแบบพาอากาศเมื่อเทียบกับ Seal-355-3S ก็ไม่ต้องใช้เครื่องทำน้ำเย็นเมื่อเปรียบเทียบกับแบรนด์อื่น ๆ ในแง่ของพารามิเตอร์ทางแสง ความกว้างของพัลส์จะแคบกว่า (<18ns@40 KHZ) ความถี่การทำซ้ำจะสูงกว่า (40KHZ) คุณภาพของลำแสงจะดีกว่า (M2≤1.2) และลำแสงที่สูงกว่า . -
เลเซอร์อัลตราไวโอเลต (UV) 355nm- JPT ซีล 3W 5W 10W 15W
JPT UV Laser Seal Series 355nm, 3W, 5W เปรียบเทียบกับเลเซอร์ IR กระบวนการเลเซอร์ UV จะทำลายพันธะเคมีของวัตถุโดยตรง กระบวนการนี้สร้างความร้อนน้อยกว่ามากเพื่อลดผลกระทบจากความร้อน วัสดุที่ผ่านการประมวลผลจะเปลี่ยนเป็นระดับอะตอม ลดการปนเปื้อนไปยัง สิ่งแวดล้อม.คุณสมบัติของเลเซอร์ UV มีความยาวคลื่นสั้นกว่า ขนาดจุดเล็ก พลังงานเข้มข้น สารละลายสูง เหมาะสำหรับการมาร์กที่มีความแม่นยำ ความต้องการความกว้างของเส้นที่แคบ การมาร์กคุณภาพสูง ผลกระทบจากความร้อนน้อยลง นอกจากนี้ยังมี... -
เลเซอร์อัลตราไวโอเลต (UV) 355nm- Huaray China Polar 3W, 5W, 10W ระบายความร้อนด้วยน้ำ
แหล่งเลเซอร์ UV (อัลตราไวโอเลต) Huaray 355nm 3W, 5W, 12W ระบายความร้อนด้วยน้ำ เลเซอร์ UV นาโนวินาทีซีรีส์ Poplar นำเสนอการออกแบบแบบครบวงจรใหม่ ซึ่งง่ายต่อการรวมเข้าด้วยกันความกว้างพัลส์แคบที่ความถี่สูง ผลกระทบด้านความร้อนต่ำที่ขอบการประมวลผล และประสิทธิภาพสูงในเวลาเดียวกันด้วยฟังก์ชั่นการเปลี่ยนความถี่สามระดับซึ่งสามารถยืดอายุของเลเซอร์ได้อย่างมีประสิทธิภาพและฟังก์ชันการตรวจสอบออนไลน์ที่เป็นทางเลือกเพื่อตอบสนองเงื่อนไขความต้องการของกระบวนการทางอุตสาหกรรม...
